一篇来自英国《金融时报》的报道，把欧洲一场原本并不显眼的桌面推演推到了聚光灯下。推演讨论的核心问题其实非常直接：如果欧盟继续配合美国，把ASML的光刻机作为对华施压的工具之一，最终究竟是谁会先撑不住？参与者很快发现，这样的一个问题远比表面看起来更棘手，也更不安全。扮演中方角色的人员抛出的一个反问，直接让现场思路出现了停滞——如果中国对稀土出口实施管制，欧洲又准备怎么样应对？所谓卡脖子的光刻机牌，似乎并没有想象中那么坚硬。

  ASML是欧洲为数不多真正拿得出手的工业王牌，也是全球唯一可以在一定程度上完成EUV光刻机批量商用交付的企业。因此，它长期被欧盟视作对华技术博弈中一张能打出的产业筹码。然而，这张筹码的真实分量，却远比外界想象中尴尬得多。回顾过去几年，美国先后叫停了EUV光刻机以及部分浸润式DUV光刻机对华出口，并针对中芯国际、华虹、华为、长鑫存储、长江存储等企业单独出台限制政策，进一步要求ASML不仅停止交付部分在产设备，还要中断已售设备的售后服务支持。

  从EUV禁令一路延伸到后续一系列技术限制，ASML几乎始终处在被动执行的位置上。荷兰政府并未主动出面强力干预，欧盟层面也缺乏统一行动。如今，欧洲又在桌面推演中重新把光刻机当作战略筹码，本身就带有一种现实与认知错位的讽刺意味。哥伦比亚大学教授杰弗里·萨克斯在接受媒体采访时直言，欧洲虽然曾孕育大量世界级企业，但如今在很多关键领域已经被嵌入美国主导的技术体系之中，美国可以在相当程度上决定ASML的出口方向，甚至能够直接影响其与中国的合作伙伴关系。换句话说，欧洲在这条产业链中，战略自主空间正在被持续压缩。

  从营收结构来看，中国大陆在2025年已经为ASML贡献约33%的收入。受出口限制影响，公司预计2026年这一比例可能下降至约20%。而在2024年第三季度，这一数字甚至一度达到47%，首次超过中国台湾地区，成为其最重要的单一市场来源之一。面对这样一个体量的市场，轻易说不，从纯粹商业逻辑上看本身就充满矛盾。

  ASML现任CEO克里斯托弗·富凯也多次在公开场合表达过不满。他批评美国主导的出口管制政策更多服务于经济竞争逻辑，而非单纯国家安全，并提出两个关键判断：其一，对中国维持某些特定的程度的设备出口，有助于避免其加速形成完全自主且具有全球竞争力的替代体系；其二，欧洲当下更应该优先构建自身完整的芯片产业链，提高内部能力，而不是长期依附外部规则。

  这种优势并非简单源于矿产储量。全世界内，澳大利亚、美国、缅甸甚至格陵兰都拥有稀土资源，但真正的重点是冶炼分离与高纯度加工能力。中国在轻稀土到中重稀土的分离与提纯环节中，占据全球约85%甚至接近100%的产能优势。这在某种程度上预示着，即便原料来自海外，最终进入高端工业体系的关键材料，仍高度依赖中国加工体系。

  如果把这一逻辑放入芯片制造体系，情况会更加直观。一颗先进芯片要经历1000到1400道工序，而稀土材料几乎贯穿多个关键环节。例如化学机械抛光所用的氧化铈，其全球约九成高纯产能集中在中国；用于驱动机械臂、真空泵和精密平台的钕铁硼磁体依赖钕、镝、铽等元素；EUV相关光刻材料中会使用铕、铽化合物增强对极紫外光的响应；部分激光器依赖钇元素；薄膜沉积靶材中则包含镧与钆等材料。

  时间线被进一步推向现实的，是2025年10月9日中国商务部第61号公告的落地。该政策设计的复杂程度显著提升：凡是在境外生产、且产品中含有0.1%以上中国稀土成分的产品，都需要申请许可；使用中国稀土开采、冶炼分离或磁材制造技术在境外生产的产品，同样纳入管制；涉及14纳米及以下逻辑芯片或256层及以上存储芯片的相关申请，则实行逐案审批机制。 公告发布后，全球长期资金市场一度出现非常明显波动。半导体板块整体回调，英伟达、AMD等公司股票价格出现下挫，费城半导体指数同步走弱。市场担忧的焦点并非单一企业业绩，而是全球先进制程从材料到制造再到终端应用之间也许会出现的连锁反应。 在光刻机受限的背景下，国产替代并没有停止推进。 一个典型例子是，中芯国际在缺乏EUV设备的情况下，依靠现有DUV多重曝光工艺，成功实现了用于华为Mate 60 Pro的麒麟9000S芯片制造，其性能已接近7纳米水平。 围绕国产光刻机的技术路径也逐渐清晰。上海微电子正在推进面向28纳米节点的浸没式DUV设备研发，光源、光学系统与双工件台三大核心模块均在持续突破：哈尔滨工业大学在自由电子激光光源方向取得阶段进展；清华大学在稳态微聚束理论上取得突破；长春光机所及其孵化企业完成90纳米级ArF投影光学系统研制；清华大学早在2011年就开发出浸没式光刻双工件台原型，并在2015年实现2纳米级运动控制精度；北京华卓精科则推动双工件台实现产业化突破，打破长期技术垄断格局。 更具代表性的进展来自计算光刻路线。通过AI与GPU算力支持，反向光刻技术逐步实现工程化应用，相当于在不改变193纳米DUV光源的前提下，通过算法提前补偿光学畸变，使成熟设备也能够稳定加工28纳米制程芯片。 28纳米本身在产业中并不过时，它覆盖汽车电子、物联网、工业控制、通信基站以及大多数消费电子应用领域。掌握这一节点的自主制造能力，意味着在极端外部断供情况下，经济体系的核心运行仍具备基本保障能力。 从有没有到好不好，有时候先解决有没有本身就是决定性一步。 如果把光刻机与稀土两条线放在一起审视，欧洲推演中的难题答案其实逐渐清晰。 第一，中国的技术与产业推进并未停滞。无论是DUV还是更上游的光源、光学与精密平台，国产替代都在持续推进，EUV方向也在多路径探索中推进。外部限制的结果，并非停滞，而是推动体系向更强自主化方向演化。 第二，ASML自身处境正在变得复杂。一方面其技术受美国出口规则约束，另一方面其商业市场高度依赖中国，同时其产业链部分关键材料又与中国稀土体系存在关联。在这种结构下，继续参与对华限制，意味着同时承受市场端与供应链端的双重压力。因此近年来ASML一边执行限制政策，一边又在北京扩建设备维修与再利用中心，本质上是在为不确定未来做缓冲布局。 第三，欧洲的战略空间正在收窄。光刻机曾是其少数可当作谈判筹码的高端产业，但其流向受到美国规则强烈影响。一旦真正将其作为施压工具，稀土体系的反制可能更直接、更迅速地作用于欧洲制造业的能源、材料与高端工业基础。 回到《金融时报》披露的那场桌面推演，它隐含的结论已经逐渐清晰：在这场围绕产业链的长期博弈中，把ASML作为单向施压工具，并不能带来真正的主动权。相反，它可能同时加速欧洲对外依赖的暴露，并推动中国在芯片与材料体系上的自主闭环进一步成型。 光刻机与稀土，看似是两条不同赛道，实则构成同一张全球产业结构图的两端。时间能被争取，但结构性的能力差距，往往不会由于时间而自动缩小，反而可能在持续调整中重新分配力量的位置。返回搜狐，查看更加多